今日在上海舉辦的“2019中國（上海）集成電路創(chuàng)新峰會(huì)”上，與會(huì)專家透露，上海市將牽頭制定“中國集成電路技術(shù)路線圖”（下稱“路線圖”），去年在上海揭牌的國家集成電路創(chuàng)新中心將主導(dǎo)路線圖制定。
根據(jù)復(fù)旦大學(xué)微電子學(xué)院院長、國家集成電路創(chuàng)新中心總經(jīng)理張衛(wèi)介紹，路線圖包括六大部分，分別是集成電路制造技術(shù)現(xiàn)狀和發(fā)展趨勢(shì)、先進(jìn)光刻工藝發(fā)展趨勢(shì)、邏輯工藝技術(shù)、存儲(chǔ)器技術(shù)、超越摩爾特制化技術(shù)、第三代功率半導(dǎo)體技術(shù)。
張衛(wèi)表示，路線圖借鑒了ITRS模式，并將結(jié)合中國集成電路產(chǎn)業(yè)實(shí)際，嘗試預(yù)測(cè)中國集成電路技術(shù)發(fā)展的路徑選擇和規(guī)劃周期，最終為產(chǎn)業(yè)發(fā)展提供幫助。
ITRS即美國半導(dǎo)體協(xié)會(huì)于1992年編寫的半導(dǎo)體技術(shù)路線圖，累計(jì)發(fā)布9個(gè)版本，對(duì)國際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展起到了重要的指導(dǎo)作用。
張衛(wèi)強(qiáng)調(diào)，編制路線圖是一種嘗試，通過路線圖試圖明確未來集成電路產(chǎn)業(yè)技術(shù)發(fā)展的目標(biāo)、方向、重點(diǎn)、關(guān)鍵問題和時(shí)間節(jié)點(diǎn)等。
廣告聲明：文內(nèi)含有的對(duì)外跳轉(zhuǎn)鏈接（包括不限于超鏈接、二維碼、口令等形式），用于傳遞更多信息，節(jié)省甄選時(shí)間，結(jié)果僅供參考，IT之家所有文章均包含本聲明。