1月19日消息，10nm工藝量產(chǎn)時(shí)間延遲，英特爾在芯片工藝方面已經(jīng)落后于準(zhǔn)備量產(chǎn)5nm工藝的臺(tái)積電，也落后于三星，但外媒在報(bào)道中透露，英特爾的7nm工藝，理論上不會(huì)受到10nm工藝延遲的影響。
從外媒的報(bào)道來(lái)看，7nm工藝?yán)碚撋喜粫?huì)受到10nm工藝延遲的影響，可能還是同采用新的技術(shù)有關(guān)，其是基于極紫外光刻（EUV）的獨(dú)立的制程。
雖然英特爾的7nm工藝?yán)碚撋喜粫?huì)受到10nm工藝延遲的影響，但其在這一工藝的采用方面還是落后于臺(tái)積電和三星，為蘋(píng)果、華為等公司代工芯片的臺(tái)積電，在2018年就已率先量產(chǎn)7nm芯片，今年已是7nm投產(chǎn)的第三個(gè)年頭，更先進(jìn)的5nm工藝也即將量產(chǎn)，臺(tái)積電方面預(yù)計(jì)今年可貢獻(xiàn)10%的營(yíng)收。
而反觀英特爾，他們的7nm芯片目前還尚未推出，預(yù)計(jì)要在明年才會(huì)推出。
在去年5月份的英特爾投資者會(huì)議上，英特爾首席工程官兼技術(shù)、系統(tǒng)架構(gòu)和客戶(hù)集團(tuán)的總裁Murthy Renduchintala曾透露，7nm是英特爾首次采用EUV技術(shù)，性能預(yù)計(jì)可提升20%，首款產(chǎn)品預(yù)計(jì)是用于數(shù)據(jù)中心人工智能和高性能計(jì)算的通用GPU，預(yù)計(jì)在2021年推出。
另外在此前所披露的未來(lái)十年的技術(shù)路線圖中，7nm工藝也是計(jì)劃在明年推出，2023年則會(huì)是更先進(jìn)的5nm工藝。
外媒在10nm工藝延遲理論上不會(huì)影響7nm工藝的報(bào)道中，也提到了英特爾7nm芯片的量產(chǎn)事宜，英特爾CEO鮑勃·斯旺(Robert Swan)透露英特爾的首款7nm芯片在將在2021年四季度生產(chǎn)。外媒在報(bào)道中也提到，英特爾似乎已準(zhǔn)備在明年四季度推出7nm（相當(dāng)于臺(tái)積電的5nm）的產(chǎn)品。
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