中學(xué)課本上有一篇文章叫《核舟記》，講述了古人在桃核上刻出蘇軾泛舟赤壁圖的奇巧技藝。
幾百年后，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)已經(jīng)將這種細(xì)微處創(chuàng)造天地的技藝發(fā)展到超乎想象的境地。
本文要說(shuō)的，就是讓半導(dǎo)體真正能夠妙至顛毫的工具，也是人類工業(yè)最偉大的發(fā)明之一……
一、引子
從1947年美國(guó)貝爾實(shí)驗(yàn)室里誕生的點(diǎn)接觸型的鍺晶體管開(kāi)始，芯片半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)迅猛發(fā)展，如今已精密到在一粒米上刻下整部《紅樓夢(mèng)》不成問(wèn)題。
這背后需要一個(gè)強(qiáng)大的工具——光刻機(jī)。
說(shuō)到光刻機(jī)，這個(gè)一直低調(diào)隱匿在芯片產(chǎn)業(yè)幕后的人類偉大發(fā)明，仿佛一夜之間受到了全世界的關(guān)注。
今天，IT之家小編汐元就和大家聊聊光刻機(jī)的那些事。
二、貿(mào)易風(fēng)云裹挾下的半導(dǎo)體行業(yè)
中美貿(mào)易摩擦從2018年開(kāi)始不斷升級(jí)，影響全球，其中技術(shù)封鎖和非法斷供是美國(guó)一系列施壓措施的武器之一，以打擊國(guó)內(nèi)一批高科技企業(yè)。首當(dāng)其沖就是芯片半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。
2018年美國(guó)制裁中興的手段立竿見(jiàn)影，正是鎖住了國(guó)內(nèi)企業(yè)在芯片產(chǎn)業(yè)上無(wú)法自主的咽喉。
而華為能夠抵擋到現(xiàn)在的關(guān)鍵，也是因?yàn)槿A為本身的海思芯片業(yè)務(wù)發(fā)展得風(fēng)生水起。
但前不久，IT之家報(bào)道了臺(tái)積電因美國(guó)施壓可能無(wú)法向華為穩(wěn)定供貨14nm芯片的消息，雖然還不確定結(jié)果，但不得不令人擔(dān)憂。
根據(jù)美國(guó)《出口管理?xiàng)l例》的限制，產(chǎn)品涵蓋硬件、軟件等的美國(guó)技術(shù)含量超過(guò)25%，就會(huì)被要求禁止銷售給中國(guó)。
哪怕國(guó)外制造，但源自美國(guó)的內(nèi)容超過(guò)25%，也在限制范圍內(nèi)。
報(bào)道中稱，臺(tái)積電內(nèi)部評(píng)估，其7nm工藝源自美國(guó)技術(shù)比重不到10%，14nm比重大約15%。
這意味著若美國(guó)真的將“源自美國(guó)技術(shù)”的標(biāo)準(zhǔn)從25%下調(diào)至10%，那么14nm芯片的供貨將受到限制。
作為臺(tái)積電重要客戶之一，華為將深受不利影響。更讓人擔(dān)憂的是，萬(wàn)一未來(lái)7nm、甚至5nm芯片供應(yīng)也被限制，那華為無(wú)疑也將被扼住7寸。
三、華為的難關(guān)
芯片行業(yè)的玩家大概能分成三種：IDM、Foundry和Fabless。
IDM意思是芯片的設(shè)計(jì)、制造、封測(cè)都能做，有完整能力，像三星；Foundry的意思是只做代工，例如臺(tái)積電；Fabless就是專注于芯片設(shè)計(jì)與銷售，例如華為海思。
是的，華為海思只負(fù)責(zé)做芯片的產(chǎn)品設(shè)計(jì)和銷售，不具備制造、封測(cè)的能力，所以要依賴代工廠。
而縱觀國(guó)際市場(chǎng)，能滿足華為代工要求的，只有三星和臺(tái)積電兩家。三星本身和華為有著競(jìng)爭(zhēng)關(guān)系，所以一直以來(lái)華為和臺(tái)積電合作緊密。
但如果這次臺(tái)積電在美國(guó)的施壓下停止對(duì)華為14nm芯片供貨，后果很難想象。
并且最近市場(chǎng)還有傳聞，臺(tái)積電擔(dān)心華為過(guò)度建立庫(kù)存，因而減少華為7nm芯片的供貨，重新分配產(chǎn)能。
最終結(jié)果還未可知，但這些消息都在給我們敲響警鐘：一旦我們依賴的供應(yīng)商斷貨，我們將束手無(wú)策。
而這一天很可能來(lái)得比想象中快，就像去年美國(guó)政府將華為列入實(shí)體清單，幾天之后谷歌就暫停了安卓和其他服務(wù)對(duì)華為的支持。
風(fēng)暴來(lái)臨的速度永遠(yuǎn)會(huì)讓人措手不及。
四、中芯國(guó)際，買一臺(tái)EUV光刻機(jī)好難
還好華為意識(shí)到了這一點(diǎn)，IT之家之前也報(bào)道，華為正積極將14nm芯片訂單轉(zhuǎn)交給大陸芯片代工廠中芯國(guó)際。
▲圖自：中芯國(guó)際官網(wǎng)
中芯國(guó)際2019年已經(jīng)成功實(shí)現(xiàn)第一代14納米FinFET工藝量產(chǎn)。2020年1月14日，中芯南方廠投產(chǎn)國(guó)內(nèi)首條14nm生產(chǎn)線，月產(chǎn)能可達(dá)到3.5萬(wàn)片。同時(shí)，他們的12nm技術(shù)已經(jīng)進(jìn)入客戶導(dǎo)入階段，這是一個(gè)令人振奮的消息。
對(duì)于目前十分關(guān)鍵的7nm工藝，中芯國(guó)際早在2017年就開(kāi)始布局，并打算在今年年內(nèi)進(jìn)行風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)。
但是，目前有一個(gè)問(wèn)題橫亙?cè)诿媲埃?span id="wtpe9lo" class="accentTextColor">他們?nèi)鄙僖慌_(tái)7nm EUV光刻機(jī)。這是決定能否大規(guī)模量產(chǎn)7nm芯片的關(guān)鍵設(shè)備。
根據(jù)日媒披露，中芯國(guó)際在2018年就向荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML訂購(gòu)了一臺(tái)EUV光刻機(jī)。
ASML是目前全球唯一能生產(chǎn)這種設(shè)備的廠商。雙方計(jì)劃的是2019年初交付設(shè)備。
然而，這臺(tái)光刻機(jī)的交付之路可謂崎嶇多舛，但直到目前，仍然沒(méi)有在中國(guó)落地。
2018年末，就在接近7nm EUV光刻機(jī)向中芯國(guó)際交付的時(shí)間點(diǎn)上，ASML的元器件供應(yīng)商Prodrive突遇火災(zāi)，工廠部分庫(kù)存、生產(chǎn)線被燒毀，2019年的交貨計(jì)劃也被迫延遲。
然后，英國(guó)路透社稱援引不具名的知情人士消息，美國(guó)政府從2018年開(kāi)始就與荷蘭官員至少進(jìn)行了4輪會(huì)談，企圖阻止ASML向中國(guó)出售EUV光刻機(jī)。為此美國(guó)國(guó)務(wù)卿蓬佩奧甚至親自游說(shuō)荷蘭政府。
這中間，還有荷蘭當(dāng)?shù)孛襟w報(bào)道稱ASML美國(guó)子公司的中國(guó)員工竊取ASML的技術(shù)并泄露給中國(guó)企業(yè)的事件。
……
不過(guò)好在，ASML方面都及時(shí)作出了澄清，他們表示媒體有關(guān)“延遲交貨”的說(shuō)法是存在錯(cuò)誤的，所謂“中國(guó)間諜”竊取技術(shù)的事件也存在誤讀，ASML只是在幾年前被硅谷的一小部分員工侵犯了知識(shí)產(chǎn)權(quán)，其中恰好部分涉案員工是中國(guó)人而已。
他們表示：不會(huì)對(duì)中國(guó)斷供光刻機(jī)。
同時(shí)ASML解釋了EUV光刻機(jī)目前還沒(méi)有交貨的原因：
根據(jù)瓦圣納協(xié)議，ASML出口EUV到中國(guó)，必須取得荷蘭政府出口許可，但該出口許可在今年到期，所以ASML在到期前重新進(jìn)行申請(qǐng)，目前正等待荷蘭政府核準(zhǔn)。
只是到目前，這臺(tái)EUV光刻機(jī)究竟何時(shí)交付，還是未知數(shù)。
五、從沙子到芯片
說(shuō)到這里，可能有IT之家小伙伴仍然不清楚光刻機(jī)對(duì)于芯片行業(yè)的重要意義，它到底是什么？汐元利用這一節(jié)給大家科普一下。
首先要從一枚芯片到底是什么制造出來(lái)的說(shuō)起。
我們經(jīng)常聽(tīng)說(shuō)，芯片是沙子做成的。沒(méi)錯(cuò)。芯片制造第一步就是將沙子液態(tài)化，然后去除雜質(zhì)，提取高純度的硅。
▲高溫熔化的沙子
接著通過(guò)精密控制溫度和旋轉(zhuǎn)的速度，將硅拉成硅棒。然后將硅棒切成一片一片的，形成晶圓。
▲拉硅棒
▲切成晶圓
晶圓需要進(jìn)一步處理，包括在表面形成矽化合物、植入離子、化學(xué)氣相沉積等各種操作，最后在晶圓表面覆蓋光阻（一種光敏材料）。
▲形成化合物
▲植入離子
這些通常被統(tǒng)稱為“光刻膠”。
▲形成光阻材料
然后，關(guān)鍵的操作來(lái)了，我們需要將芯片設(shè)計(jì)師設(shè)計(jì)的電路圖寫到很多層的光罩（掩膜）上，然后用光源透過(guò)光罩，像幻燈機(jī)一樣把光罩上的電路圖顯影在晶圓表面。
▲投影
由于光敏材料和光的反應(yīng)，等于將電路圖“畫”在了晶圓上。
這個(gè)過(guò)程就是光刻，需要符合要求的光刻機(jī)才能完成。
接下來(lái)，還要對(duì)已經(jīng)顯影了電路圖的晶圓進(jìn)行蝕刻、物理氣相沉積等操作，就是給晶圓表面的元件加入金屬導(dǎo)線。
▲蝕刻
然后，就是對(duì)晶圓進(jìn)行化學(xué)機(jī)械研磨，使晶圓表面的材質(zhì)平坦化。
最后，就是對(duì)晶圓進(jìn)行切割、封裝、測(cè)試等，最終形成我們使用的芯片。
雖然汐元幾句話說(shuō)完了，但是實(shí)際生產(chǎn)的時(shí)候，前后可多達(dá)5000道工序，極度復(fù)雜。
回到剛才說(shuō)到的光刻環(huán)節(jié)。光刻光刻，是把光當(dāng)作刀子一樣在晶圓表面刻畫電路圖。所以，這里的光源，非常重要。
光源的精密程度，決定了寫入晶圓的電路的精密程度，也就決定了芯片上的晶體管能做多小，這，也就和我們掛在嘴邊的XX納米工藝直接相關(guān)。
怎樣定義這個(gè)精密程度呢？答案就是光源的波長(zhǎng)。
翻一下電磁波的波譜，可以發(fā)現(xiàn)在所有的光線中，紫外線的波長(zhǎng)幾乎是最短的了。
所以，整個(gè)半導(dǎo)體制程的進(jìn)化過(guò)程就是考慮怎么使用波長(zhǎng)更短的紫外光的過(guò)程。
給大家看一張表格：
在此之前，行業(yè)里主流的光刻機(jī)使用的是DUV深紫外光源。深紫外光源就是波長(zhǎng)短于300nm的紫外光線，主要使用的是KrF和ArF兩個(gè)波段，他們制造40nm制程以下半導(dǎo)體已經(jīng)比較吃力了。
但是科技廠商們發(fā)揮聰明才智，一直讓DUV的支持延續(xù)到了10nm甚至7nm（也就是所謂的第一代7nm工藝），但是再往下，DUV就真Hold不住了，只能使用波長(zhǎng)為13nm左右的EUV極紫外光線。
我們知道，工藝制程越小，技術(shù)挑戰(zhàn)的難度就越高，當(dāng)工藝制程小于10nm的時(shí)候，逼進(jìn)物理極限，摩爾定律也面臨失效，這種極限挑戰(zhàn)下，需要投入的技術(shù)資源以及研發(fā)資金是不可想象的，全球其實(shí)沒(méi)有多少家半導(dǎo)體企業(yè)能支撐。
而當(dāng)今世界，唯一能夠造出EUV極紫外光刻機(jī)的，就是ASML。所以它被人們譽(yù)為“摩爾定律的拯救者”。
六、EUV光刻機(jī)，到底難在哪里？
可能有IT之家小伙伴會(huì)問(wèn)：為什么只有ASML能造出EUV光刻機(jī)呢？這個(gè)EUV光刻機(jī)到底難在哪里？
我們首先需要明白EUV光刻機(jī)的工作原理。當(dāng)然，細(xì)節(jié)極度復(fù)雜，汐元盡量用簡(jiǎn)單的話講清楚。
上一節(jié)我們講過(guò)，光刻這部分原理其實(shí)很簡(jiǎn)單，就是讓光透過(guò)寫有電路圖的多層光罩，將電路圖顯影在晶圓上。
▲再看一遍這個(gè)圖
所以有兩個(gè)關(guān)鍵點(diǎn)，一個(gè)是光源，一個(gè)是光罩。
極紫外光源怎么產(chǎn)生？方法不止一種，ASML的辦法是，用強(qiáng)烈的雷射光兩次轟擊“錫液滴”，就可以產(chǎn)生波長(zhǎng)13.5nm的極紫外光。
▲轟擊錫液滴
然后，利用復(fù)雜的光學(xué)結(jié)構(gòu)將極紫外光變成極紫外光雷射。
具體的方法大家不用了解，涉及高端的化學(xué)知識(shí)和光學(xué)知識(shí)。
變成的雷射光還要經(jīng)過(guò)一段復(fù)雜的照明光學(xué)系統(tǒng)，目的是將雷射光整形成需要的樣子，然后通過(guò)光罩來(lái)成像。
▲圖自ASML官方
這里有一點(diǎn)，前面我們說(shuō)的，過(guò)去的光刻機(jī)是光線穿透光罩成像，像幻燈機(jī)一樣。
但是極紫外光不一樣，它很脆弱，會(huì)被光罩的材料吸收。這是個(gè)難點(diǎn)，對(duì)光學(xué)系統(tǒng)的要求極高。
為了避免極紫外光被吸收，EUV光刻機(jī)中，必須使用反射式光罩來(lái)成像。
EUV光刻機(jī)的原理基本就是這樣。說(shuō)起來(lái)簡(jiǎn)單，但實(shí)際有很多難點(diǎn)：
首先，如何讓雷射準(zhǔn)確擊中錫液滴？而且是前脈沖和主脈沖能夠擊中錫液滴2次，同時(shí)每秒鐘擊50000次。怎么樣，嚇人吧。
再就是剛才說(shuō)的，EUV光產(chǎn)生后，還需要經(jīng)過(guò)復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng)，怎么樣讓光不被光學(xué)鏡片吸收，保證轉(zhuǎn)換效率？這需要極端強(qiáng)大的光學(xué)技術(shù)支持。
還有一個(gè)問(wèn)題是電源，目前的電源無(wú)法產(chǎn)生足夠的功率讓EUV大幅度提高效率。
然后，還有光刻膠光阻的敏感度、光子散射噪音引起的隨機(jī)現(xiàn)象等，都是EUV光刻機(jī)面臨的問(wèn)題。
有數(shù)據(jù)說(shuō)，每臺(tái)EUV光刻機(jī)有超過(guò)10萬(wàn)個(gè)零件、3千條電線、4萬(wàn)個(gè)螺栓、2公里長(zhǎng)的軟管等零組件，最大重量達(dá)180公噸。
制造難度可想而知。
這樣一臺(tái)光刻機(jī)多少錢呢？
根據(jù)媒體報(bào)道，此前中芯國(guó)際訂購(gòu)的EUV光刻機(jī)是1.2億歐元，相當(dāng)于人民幣9億多元，而先進(jìn)的EUV光刻機(jī)可以達(dá)到1.5億美元，約合人民幣10億元！這比美國(guó)第四代戰(zhàn)斗機(jī)F35的價(jià)格還貴！
雖然這么貴，但想買EUV光刻機(jī)還不止是錢的問(wèn)題，關(guān)鍵是它的產(chǎn)量極低，ASML一年也就能生產(chǎn)十幾到二十臺(tái)EUV光刻機(jī)，全球那么多半導(dǎo)體企業(yè)，爭(zhēng)破頭皮也不一定買得到。
七、ASML，舍我其誰(shuí)的背后
那么ASML憑什么能造出這種設(shè)備呢？
這家公司的崛起之路其實(shí)也頗為曲折，日后有時(shí)間汐元可以詳細(xì)為大家講一講。
簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，其實(shí)早期的光刻機(jī)制造并不復(fù)雜，最早是日本的尼康和佳能進(jìn)入這個(gè)領(lǐng)域，但后來(lái)讓美國(guó)的Perkin Elmer和GCA公司捷足先登。
不過(guò)尼康和佳能也不是吃素的，在上世紀(jì)80年代，逐步擊敗前面兩家美國(guó)公司。
那個(gè)時(shí)候，還沒(méi)有ASML什么事，他們?cè)?984年成立，當(dāng)時(shí)只是飛利浦的一個(gè)小部門。
不過(guò)他們很給力，第二年就和蔡司合作改進(jìn)光學(xué)系統(tǒng)，1986年就推出了自家很棒的第二代產(chǎn)品PAS-2500。
到了八十年代末，GCA衰亡，Perkin Elmer賣身給美國(guó)另一家巨頭光刻機(jī)SVG。但后來(lái)，SVG發(fā)展也不行了，在2000年被ASML收購(gòu)，ASML在這次收購(gòu)中獲得了關(guān)鍵的反射技術(shù)。
90年代末21世紀(jì)初，行業(yè)需要超越193nm的解決方案，這實(shí)際上是ASML和尼康的決戰(zhàn)。ASML在2002年接受臺(tái)積電提出的浸入式193nm的技術(shù)方案，光源也就是DUV深紫外光。
而尼康作了一回死，它和英特爾合作一起研發(fā)了一個(gè)非常超前的技術(shù)，結(jié)果失敗了。
于是ASML從此逐漸超越尼康，成為光刻機(jī)領(lǐng)域的霸主。后來(lái)英特爾離開(kāi)了尼康，轉(zhuǎn)身投向ASML陣營(yíng)。
至于EUV光刻機(jī)，其實(shí)最早是英特爾牽頭搞的，還聯(lián)合很多公司以及實(shí)驗(yàn)室成立了一個(gè)專門研究EUV的組織，其中就包括ASML。
后來(lái)這個(gè)組織解散了，就剩ASML還篤定要做EUV。
2012年，英特爾、三星和臺(tái)積電分別以41億、5.03億、8.38億歐元入股ASML，因?yàn)橐蛟霦UV光刻機(jī)，耗資巨大。
當(dāng)然，英特爾、三星和臺(tái)積電也沒(méi)吃虧，后來(lái)事實(shí)證明，他們不僅享有EUV光刻機(jī)的優(yōu)先供貨權(quán)，并且由于ASML股價(jià)暴漲，在后來(lái)出售或減持ASML股份時(shí)，這三巨頭都獲利頗豐。
從這簡(jiǎn)短的發(fā)展歷程能看出，之所以只有ASML能造出EUV光刻機(jī)，汐元總結(jié)，有三個(gè)原因：
一是幾十年技術(shù)積淀，足夠耐心。
這個(gè)積淀有兩個(gè)途徑，一個(gè)是自身研發(fā)投入，另一個(gè)是并購(gòu)，例如前面說(shuō)的，收購(gòu)SVG獲得了關(guān)鍵的反射技術(shù)，還有收購(gòu)美國(guó)光學(xué)技術(shù)供應(yīng)商Cymer得到了光源技術(shù)，收購(gòu)蔡司半導(dǎo)體公司24.9%的股權(quán)，并與之共同研發(fā)最頂尖的光學(xué)技術(shù)。
二是賭對(duì)了技術(shù)方向，能制造7nm工藝的芯片技術(shù)不止一種，但EUV是比較可行的；
第三點(diǎn)，也是最重要的，不缺錢，不缺資源。
ASML有一項(xiàng)獨(dú)特的規(guī)定，就是要想獲得光刻機(jī)的優(yōu)先供貨權(quán)，必須入股自己，這樣就等于將半導(dǎo)體巨頭們綁定成利益共同體，無(wú)論是資金還是技術(shù)資源，都有保證。
其實(shí)，ASML光刻機(jī)設(shè)備90%的零部件都依賴外購(gòu)，正是因?yàn)楹捅姸嗉夹g(shù)供應(yīng)商形成利益共同體的關(guān)系，ASML才能整合最頂尖的資源來(lái)辦大事。
八，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)，走在曲折但奮進(jìn)的路上
ASML雖然偉大，但畢竟是別人家的。
本文開(kāi)頭對(duì)當(dāng)前局勢(shì)的分析，相信IT之家小伙伴們也很清楚，對(duì)于中國(guó)來(lái)說(shuō)，只有自己掌握了核心科技，才能不被外界掣肘。
所以最后一節(jié)，我們回到文章開(kāi)頭所說(shuō)情勢(shì)，聊一聊國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)目前的發(fā)展現(xiàn)狀。
中國(guó)對(duì)光刻機(jī)的研究起步并不晚，大概在上世紀(jì)70年代，早期的型號(hào)主要是接觸式光刻機(jī)。所謂接觸式光刻機(jī)，也就是光罩貼在晶圓上的。中科院1445所在1977年研制出了一臺(tái)接觸式光刻機(jī)，比美國(guó)晚了二十年左右。
1985年，機(jī)電部45所研制出了第一臺(tái)分步投影式光刻機(jī)，而美國(guó)在1978年研制出這種光刻機(jī)，當(dāng)時(shí)使用的是436nm G線光源
90年代的時(shí)候，國(guó)內(nèi)光刻機(jī)在技術(shù)上和國(guó)外其實(shí)相差還不遠(yuǎn)，大概相當(dāng)于國(guó)外80年代中期的水平。
不過(guò)要知道，光刻機(jī)這種東西，工藝（即采用光源的波長(zhǎng)）每向前進(jìn)一個(gè)臺(tái)階，制造的難度、需要的資金，都是指數(shù)級(jí)增長(zhǎng)的，越往后越難搞。
2000年開(kāi)始，我國(guó)開(kāi)始啟動(dòng)研究193nm ArF光刻機(jī)的項(xiàng)目。正如前文所說(shuō)，那個(gè)時(shí)候ASML已經(jīng)正在研究EUV光刻機(jī)了。
2002年，光刻機(jī)被列入國(guó)家863重大科技攻關(guān)計(jì)劃，由科技部和上海市共同推動(dòng)成立上海微電子裝備有限公司來(lái)承擔(dān)。
上海微電子基本上也代表了目前國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的最高水平。經(jīng)過(guò)十多年的發(fā)展，目前其自主研發(fā)的600系列光刻機(jī)可以實(shí)現(xiàn)90nm制程工藝芯片的量產(chǎn)，使用的還是193nm ArF光源。
很明顯，從制程工藝的角度上看，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)目前和ASML差距非常大。不過(guò)，國(guó)際上其他國(guó)家也基本沒(méi)有量產(chǎn)157nm及以下光刻機(jī)的，從這個(gè)角度看，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)和除ASML之外的國(guó)際水準(zhǔn)也并未落后多少。
目前上海微電子還在研究為65nm制程芯片服務(wù)的光刻機(jī)，什么時(shí)候能夠做出來(lái)，還不好說(shuō)。
還有的，就是一些實(shí)驗(yàn)室取得的成果，以及一些媒體誤讀。
例如2019年4月，武漢光電國(guó)家研究中心的甘棕松團(tuán)隊(duì)成功研發(fā)出9nm工藝光刻機(jī)，這個(gè)就還是實(shí)驗(yàn)室里取得的成果，使用的也不是ASML的那一套方案。
再例如2018年11月，中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所“超分辨光刻裝備研制”項(xiàng)目通過(guò)驗(yàn)收，實(shí)現(xiàn)了22nm的分辨率，引起媒體一陣沸騰。
但其實(shí)，這個(gè)設(shè)備基本上可以說(shuō)并不是用來(lái)制造芯片的，距離制造芯片也非常遙遠(yuǎn)。
所以這里也說(shuō)明一下，光刻機(jī)不僅是用來(lái)制造芯片的，也可以用來(lái)制造一些光學(xué)領(lǐng)域的其他器件等。
總之，目前國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)能實(shí)現(xiàn)的制程水平還卡在90nm，和ASML差距明顯，高端光刻機(jī)還是要靠進(jìn)口。
九、結(jié)語(yǔ)：半導(dǎo)體行業(yè)沒(méi)有捷徑
世界局勢(shì)風(fēng)云變幻，現(xiàn)實(shí)不斷催促我們必須盡快在半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域有所突破。
但是，在這個(gè)產(chǎn)業(yè)里，其實(shí)也沒(méi)有什么捷徑或者彎道超車的路可走，只有一個(gè)制程節(jié)點(diǎn)一個(gè)制程節(jié)點(diǎn)地去攻破，積淀技術(shù)。想要追趕國(guó)際領(lǐng)先的水平，只有付出更多的精力，投入更多的資源。
光刻機(jī)，當(dāng)然至關(guān)重要，但并不是說(shuō)，花錢買來(lái)一臺(tái)EUV光刻機(jī)，中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)就能一躍而上。
同時(shí)，這個(gè)行業(yè)進(jìn)化節(jié)奏之快，對(duì)于科研人員來(lái)說(shuō)，也沒(méi)有太多成績(jī)上的激勵(lì)，必須十年甚至幾十年如一日地沉下心來(lái)去做。
而這，是ASML能夠崛起的原因，也是我們想要實(shí)現(xiàn)追趕的唯一途徑。
參考
oFweek，2019-05-25，《中芯國(guó)際美國(guó)退市是怎么回事？為什么中芯國(guó)際美國(guó)退市？》
金捷幡，2019-05-06，《光刻機(jī)之戰(zhàn)》
觀察者網(wǎng)，2019-01-07 ，《40年前中國(guó)就能造光刻機(jī)？真是“開(kāi)局一張圖.....”》
澎湃新聞，2020-01-15，《國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的現(xiàn)狀》
臺(tái)積電官方資料，2017-06-08，《認(rèn)識(shí)晶圓的制造過(guò)程》
天下網(wǎng)商，2020-01-09，《14nm芯片面臨斷供，7nm芯片遭大幅砍單，華為迎來(lái)最難一關(guān)》
科技日?qǐng)?bào)，2018-12-03，《國(guó)產(chǎn)22納米光刻機(jī)治不了咱們的“芯”?。 ?/a>
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