集微網(wǎng)消息，據(jù)臺媒《經(jīng)濟日報》報道，默克公司今（8）日宣布與美光科技合作開發(fā)用于半導體工藝、能降低全球變暖趨勢的氣體解決方案。
默克表示，經(jīng)過一年的持續(xù)合作，美光科技目前正在測試默克研發(fā)部門提供的低 GWP 替代性蝕刻氣體，以驗證其制程性能，從而取代傳統(tǒng)的高 GWP 材料，目標在半導體制程中導入全新且更具可持續(xù)性的氣體解決方案。兩家公司皆致力于發(fā)掘有助實現(xiàn)永續(xù)發(fā)展目標的新穎材料，以取代現(xiàn)行應用于干蝕刻與光罩清洗制程的多種高暖化潛勢的蝕刻氣體。
美光科技副總裁 John Whitman 表示，為達成在 2030 年減少 42% 的全球運營所造成的碳排放（相較于 2020 年）這一目標，美光科技投入于投資先進的減排系統(tǒng)、優(yōu)先使用全球暖化潛勢較低的氣體、外購節(jié)能設備、以可再生能源石化取代能源等方面。
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