4 月 24 日消息，據(jù)外媒報(bào)道，臺積電仍采用鰭式場效應(yīng)晶體管架構(gòu)的 3nm 制程工藝，在去年的 12 月 29 日正式開始商業(yè)化生產(chǎn)，雖然較三星電子晚了近半年，但仍被業(yè)界看好。
對于 3nm 制程工藝，臺積電管理層在一季度的財(cái)報(bào)分析師電話會議上，也有重點(diǎn)談及。
在財(cái)報(bào)分析師電話會議上，臺積電 CEO 魏哲家表示，他們的 3nm 制程工藝以可觀的良品率量產(chǎn)，在高性能計(jì)算和智能手機(jī)應(yīng)用需求的推動(dòng)下，客戶對 3nm 制程工藝的需求超過了他們的產(chǎn)能，他們預(yù)計(jì)今年的產(chǎn)能將得到充分利用。
魏哲家在會上還透露，他們的 3nm 制程工藝，預(yù)計(jì)從三季度開始就將為他們帶來可觀的營收，在他們今年全年晶圓代工業(yè)務(wù)收入中所占的比例預(yù)計(jì)為中等個(gè)位數(shù)。
魏哲家在會上還表示，從功耗、性能和面積及晶體管技術(shù)來看，他們的 3nm 制程工藝都是目前最先進(jìn)的半導(dǎo)體技術(shù)，他們也因此預(yù)計(jì)客戶對他們的 3nm 制程工藝的強(qiáng)勁需求將持續(xù)多年，他們有信心 3nm 制程工藝家族成為他們另一個(gè)大而持久的工藝節(jié)點(diǎn)。
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