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獲三星電子好評,韓國東進世美肯正計劃研發(fā)新一代極紫外光刻膠

2023/6/26 18:05:35 來源:TechWeb 作者:海藍 責編:問舟

6 月 26 日消息,在三星電子嘗試重構(gòu) EUV 光刻膠供應鏈的推動下,東進世美肯所研發(fā)的極紫外光刻膠,已在去年年底被用于他們的一條量產(chǎn)工藝線。

而相關媒體最新的報道顯示,所研發(fā)的極紫外光刻膠已進入三星電子量產(chǎn)線的東進世美肯,也在準備為下一代的極紫外光刻機,也就是高數(shù)值孔徑的極紫外光刻機(high-NA EUV)研發(fā)光刻膠。

相關媒體在報道中表示,東進世美肯研發(fā)高數(shù)值孔徑極紫外光刻機投產(chǎn)后所需的光刻膠,是為了滿足阿斯麥這一類極紫外光刻機大量投產(chǎn)之后的需求。

阿斯麥高數(shù)值孔徑的極紫外光刻機,是他們在推出 TWINSCAN NXE:3400C、TWINSCAN NXE:3600D 等多個型號的極紫外光刻機之后,所研發(fā)的新一代產(chǎn)品,將沿用 EXE 系列的命名,已有 TWINSCAN EXE:5000 和 TWINSCAN EXE:5200 兩個型號。

阿斯麥高數(shù)值孔徑的極紫外光刻機,數(shù)值孔徑將由 0.33 增至 0.55,用于 2nm 及以下的制程工藝,首臺交由客戶用于制程工藝研發(fā)的產(chǎn)品,計劃在今年年底出貨,用于大規(guī)模生產(chǎn)的,預計 2025 年開始在客戶的工廠全面投入運營。

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關鍵詞:極紫外光,三星電子
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