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三星再出新招:固態(tài)硬盤成新寵欲將取代機(jī)械硬盤

2015/8/6 15:55:03 來源:IT之家 作者:楓葉 責(zé)編:楓葉

IT之家訊  根據(jù) Engadget的報(bào)道,作為世界最大固態(tài)硬盤制造商之一,三星計(jì)劃將在旗下的SSD新產(chǎn)品中用上3-Bit MLC以及與TLC V-NAND一樣為人所熟知的3D垂直V-NAND閃存技術(shù),將取代舊愛HDD機(jī)械硬盤。

3bit V-NAND閃存,利用三星獨(dú)有的3D電荷捕獲型柵極存儲(chǔ)單元結(jié)構(gòu)技術(shù),每片閃存芯片由32層垂直堆疊的存儲(chǔ)單元組成,單片閃存的存儲(chǔ)容量可達(dá)128GB,并且這種技術(shù)在最近推出的850 EVO已經(jīng)開始投入量產(chǎn)。

在此之前,三星的V-NAND技術(shù)已經(jīng)能夠量產(chǎn)并且應(yīng)用到自家的旗艦系列850 Pro固態(tài)硬盤上,同時(shí)這種技術(shù)也號(hào)稱有著十年的生命期。對(duì)于渴望固態(tài)硬盤帶來的高速快感,但是卻因容量需求和價(jià)格被迫選擇老式硬盤的用戶,這必定是一個(gè)好消息。

科普:什么是3D V-NAND技術(shù)?

三星SSD全新3D V-NAND技術(shù)3D是指立體存儲(chǔ),V指的是垂直存儲(chǔ),說起來就是不再追求縮小cell單元,而是通過3D堆疊技術(shù)封裝更多cell單元,這樣也可以達(dá)到容量增多的目的。三星3D V-NAND技術(shù)分為兩部分,3D(立體)化和V(垂直)堆疊化首先來看看3D化的含義:NAND使用的是浮柵極MOSFET,電子儲(chǔ)存在柵極中,每次寫入都會(huì)消耗柵極中的電子,一旦電子用光那就壽終正寢了三星放棄了傳統(tǒng)的浮柵極結(jié)構(gòu),而是選擇了用控制柵極和絕緣層將MOSFET環(huán)形包裹起來。這種3D環(huán)形結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)提升了儲(chǔ)存電荷的的物理區(qū)域,從而提高性能和可靠性。

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