IT之家1月3日消息 英偉達的安培系列顯卡將會采用7nm工藝，有望在2020年下半年發(fā)布?，F(xiàn)在根據(jù)《臺北時報》的最新報道，元大證券投資咨詢有限公司的消息稱英偉達的下一代基于“安培”架構(gòu)的顯卡與前代圖靈顯卡相比，性能提升了50%，而功耗卻只有前者的一半。
▲英偉達CEO 黃仁勛
外媒TPU表示，安培顯卡采用了臺積電的7nm制程節(jié)點，由于架構(gòu)改變和制程更新帶來的50%的性能提升不是不可能的，功耗的大幅下降也是在情理之中。據(jù)悉，英偉達現(xiàn)在的圖靈顯卡基于臺積電的12納米FinFET制造工藝，而其競爭對手AMD 的Navi顯卡已經(jīng)提前一步采用了7納米工藝。
最新的消息顯示，英偉達可能在今年8月份舉行的SIGGRAPH 2020上推出安培顯卡，屆時紅綠兩廠全部升級7nm，孰強孰弱就一目了然了。
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