IT之家12月2日消息 據(jù)中國臺灣經(jīng)濟日報報道，EUV 光刻機制造商 ASML 首席執(zhí)行官 Peter Wennink 帶領(lǐng)高管拜訪三星，雙方尋求技術(shù)與投資合作。三星希望能搶在臺積電之前，取得 ASML 下一代 EUV 設(shè)備供應(yīng)。
業(yè)內(nèi)人士分析稱，三星積極追趕臺積電，不過臺積電在高良率與低功耗方面擁有優(yōu)勢。7nm 制程方面，臺積電先推出 FinFet 架構(gòu)的 7nm 技術(shù)，再推出使用 EUV 的 N7 + 制程。5nm 方面，三星與臺積電仍有二成產(chǎn)能的差距。
臺媒指出，供應(yīng)鏈透露，臺積電目前已采購 35 臺 EUV 設(shè)備，占 ASML 過半產(chǎn)量，2021 年底采購總量將超過 50 臺。相較之下，三星 EUV 設(shè)備采購量目前不到 20 臺。
IT之家了解到，臺媒 DigiTimes 今年 9 月曾表示，臺積電加速先進制程推進，累計 EUV 光刻機至 2021 年底將超過 50 臺。相較之下，三星電子 2021 年還不到 25 臺，同時 EUV POD（光罩傳送盒）采購量遠低于預(yù)期。
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