IT之家 4 月 16 日消息 根據(jù)韓國媒體 BusinessKorea 報(bào)道，三星韓國平澤市晶圓加工廠的第二條生產(chǎn)線即將建成投產(chǎn)，預(yù)計(jì)于 2021 年 6 月初完成建設(shè)。生產(chǎn)線名稱為 Pyeongtaek Plant 2 (P2)，緊靠早些時(shí)候建設(shè)的 P1 生產(chǎn)線。
三星電子位于平澤市的 P1 生產(chǎn)線于 2017 年開始投產(chǎn)，自從 2020 年下半年開始使用 EUV 工藝生產(chǎn) 10nm LPDDR5 內(nèi)存等產(chǎn)品。新的 P2 生產(chǎn)線于 2018 年開始建設(shè)，同樣具有先進(jìn)制程芯片的制造能力，將會(huì)用于制造 V-NAND 閃存顆粒。官方表示，P2 生產(chǎn)線將于 2021 年下半年開始投產(chǎn)。
IT之家了解到，三星電子此前位于美國得州的晶圓代工廠因停電而不得不停產(chǎn)，加劇了全球芯片短缺的狀況。平澤市 P2 生產(chǎn)線的建成，有望緩解目前全球芯片短缺問題。三星官方此前表示，今年的“不確定性”將持續(xù)，但全球芯片需求將會(huì)增加，將專注于開發(fā)第四代 10 納米級(jí) DRAM 和第七代 V-NAND。
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