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中微公司 ICP 刻蝕設(shè)備 Primo nanova 第 100 臺反應(yīng)腔交付

2021/6/13 22:13:35 來源:IT之家 作者:懶貓 責(zé)編:懶貓

IT之家 6 月 13 日消息 從中微公司獲悉,6 月 9 日,中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司在上海總部舉辦電感耦合等離子體(ICP)刻蝕設(shè)備 Primo nanova 第 100 臺反應(yīng)腔交付客戶慶祝儀式。

IT之家了解到,Primo nanova 是中微公司于 2018 年發(fā)布的第一代電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備,采用了中微公司的電感耦合等離子體刻蝕技術(shù)。

中微公司表示,目前,Primo nanova 產(chǎn)品已成功進入海內(nèi)外十余家客戶的晶圓生產(chǎn)線,在邏輯芯片、DRAM 和 3D NAND 廠商的生產(chǎn)線上實現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)。

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