IT之家 8 月 20 日消息 根據(jù)外媒 BusinessKorea 消息，三星電子和 SK 海力士正在研究使用多種韓國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體制造相關(guān)的材料、設(shè)備，以取代進(jìn)口產(chǎn)品。這是為了減少供應(yīng)鏈風(fēng)險(xiǎn)，保證自家半導(dǎo)體工廠的正常生產(chǎn)。
三星電子正在測(cè)試一家韓國(guó)廠商的 EUV 光刻膠樣品，有消息稱三星將在今年下半年開(kāi)始使用這種光刻膠，用于其 14nm 工藝 DRAM 生產(chǎn)。EUV 光刻膠是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)的核心材料，用于曝光工藝。目前在此類產(chǎn)品全球市場(chǎng)中，日本產(chǎn)品市場(chǎng)份額達(dá)到 90% 以上，構(gòu)成壟斷地位。由于日本已經(jīng)限制向韓國(guó)出口 EUV 光刻膠 2 年多，因此三星電子正努力尋找更可靠的本土光刻膠供應(yīng)商。
SK 海力士方面，目前正在與韓國(guó)氫氟酸制造商 RAM Technology 進(jìn)行合作，以減少對(duì)進(jìn)口產(chǎn)品的依賴。目前，SK 海力士已經(jīng)在韓國(guó)和中國(guó)的芯片工廠使用韓國(guó)產(chǎn) HF 氫氟酸。
IT之家了解到，如今中國(guó)企業(yè)也在努力研發(fā)，以求逐步擺脫對(duì)于進(jìn)口芯片制造設(shè)備的依賴。據(jù)此前消息，南大光電 ArF 光刻膠已經(jīng)通過(guò)專家組驗(yàn)收，可以用于 90nm~14nm 工藝。關(guān)于 7nm 工藝用的光刻膠，南大光電表示，目前只是小規(guī)模投產(chǎn)，相關(guān)生產(chǎn)線正在構(gòu)建當(dāng)中，存在較多的不確定性。
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