IT之家 5 月 17 日消息，為了強調光在推進科學進步過程中的重要作用，聯合國教科文組織將每年的 5 月 16 日定為“國際光日”。5 月 13 日，ASML 在一篇公眾號文章中稱，現有技術能實現 1nm 工藝，摩爾定律可繼續(xù)生效十年甚至更長時間。
ASML 稱，在半導體領域，摩爾定律 —— 這一誕生于 1965 年的前瞻推斷，就扮演著如同光一樣的角色，指引芯片制造的每一次創(chuàng)新與突破。在過去的 50 多年里，摩爾定律不斷演進。摩爾關于以最小成本制造復雜芯片的最初預測，也在演進過程中被轉述成各種各樣的表述，現在這個定律最常被表述為半導體芯片可容納的晶體管數量呈倍數增長。1975 年，摩爾修正了自己的預測：晶體管數量翻倍的時間從最初的一年上升到兩年。
IT之家了解到，摩爾認為，增加芯片面積、縮小元件尺寸以及優(yōu)化器件電路設計是實現晶體管數量翻倍的三個重要因素。
ASML 稱，在過去的 15 年里，很多創(chuàng)新方法使摩爾定律依然生效且狀況良好。從整個行業(yè)的發(fā)展路線來看，它們將在未來十年甚至更長時間內讓摩爾定律繼續(xù)保持這種勢頭。在元件方面，目前的技術創(chuàng)新足夠將芯片的制程推進至至少 1 納米節(jié)點，其中包括 gate-all-around FETs，nanosheet FETs，forksheet FETs，以及 complementary FETs 等諸多前瞻技術。此外，光刻系統(tǒng)分辨率的改進（預計每 6 年左右縮小 2 倍）和邊緣放置誤差（EPE）對精度的衡量也將進一步推動芯片尺寸縮小的實現。
ASML 稱，只要我們還有想法，摩爾定律就會繼續(xù)生效。
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