IT之家 10 月 22 日消息,據(jù)俄羅斯下諾夫哥羅德策略發(fā)展機構(gòu)公文,俄羅斯科學院下諾夫哥羅德應用物理研究所 (IPF RAS) 正在開發(fā)俄羅斯首套半導體光刻設備,并對外夸下??冢哼@套光刻機能夠使用 7nm 生產(chǎn)芯片,可于 2028 年全面投產(chǎn)。
據(jù)介紹,他們計劃在六年內(nèi)制作出光刻機的工業(yè)原型,首先要在 2024 年開發(fā)一臺 alpha 機器。這一階段的重點不在于其工作或解決的高速性,而在于所有系統(tǒng)的全面性。
然后,到 2026 年,alpha 應該被 Beta 所取代。屆時所有系統(tǒng)都將得到改進和優(yōu)化,分辨率也將得到提升,生產(chǎn)力也將提高,許多操作將實現(xiàn)機械自動化。這一階段重要的是要將其集成到實際的技術流程中,并通過“拉起”適合其他生產(chǎn)階段的設備對其進行調(diào)試。
第三步也就是最后一步,將為光刻機帶來更強的光源、改進的定位和饋送系統(tǒng),并使得這一套光刻系統(tǒng)能夠快速準確地工作。
IT之家曾報道,俄羅斯目前已經(jīng)可以生產(chǎn) 65nm 制程的芯片,該國此前宣布了一項國家計劃,希望在 2030 年開發(fā) 28nm 制程,希望靠著對外國芯片進行逆向工程,并培養(yǎng)當?shù)匕雽w人才。
俄羅斯科學院納米結(jié)構(gòu)研究所副所長表示,全球光刻機領導者 ASML 近 20 年來一直致力于 EUV 曝光機,目標是讓世界頂尖半導體廠商保持極高的生產(chǎn)效率。但俄羅斯并不需要,只要根據(jù)俄羅斯國內(nèi)的需求向前推進即可。
從其他外媒的評價來看,俄羅斯的想法似乎太過天真,畢竟想在 6 年內(nèi)僅憑自己研發(fā)出可媲美 ASML 十年積淀的光刻技術實在是有點難以令人相信,且晶圓廠并非光靠光刻機就可生產(chǎn)出芯片,還需要許多外圍設備,而俄羅斯并不滿足獨立生產(chǎn)這些設備的條件。
值得一提的是,下諾夫哥羅德代表團還向大家展示了未來光刻設備的演示樣品。這套系統(tǒng)基于下諾夫哥羅德的 IAP RAS 開發(fā)、制造和安裝。不過他們自己也提到,這甚至不是設備原型,而是“原型的原型”。
這套演示設備雖然不能解決實際的工業(yè)問題,但它可以讓科學家有機會驗證關鍵技術的可行性,并測試進一步工作所需的其他關鍵假設。
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