IT之家 12 月 7 日消息，據(jù) The Elec 報道，用于晶圓制造中 Arf 和 Krf 光刻工藝的 pellicle 防護(hù)膜供不應(yīng)求。這是因為中國每天都有更多的無晶圓廠公司崛起，而由于芯片制造商旨在開發(fā)新的半導(dǎo)體，對這種商品的總體需求也在增加。
在韓國地區(qū)，只有 FST 公司生產(chǎn) pellicle 防護(hù)膜，該公司預(yù)計今年的出口將比 2021 年增加 50%。
IT之家了解到，pellicle 防護(hù)膜用于保護(hù)晶圓上的光罩在光刻過程中不受污染。這使芯片制造商能夠更長時間地使用他們的光罩，從而節(jié)省成本。
FST 是主要的本地供應(yīng)商，為設(shè)在韓國的芯片制造商提供 pellicle 防護(hù)膜。去年，出口占其防護(hù)膜收入的 30%，但今年預(yù)計將增加到 40%。
FST 一位發(fā)言人說，原材料價格的上漲也是造成價格上漲的原因，還有日本的防護(hù)膜制造商之間的兼并也使該商品的生產(chǎn)放緩。
今年早些時候，3M 公司不得不關(guān)閉其在比利時的工廠，以遵守當(dāng)?shù)氐沫h(huán)境保護(hù)法，這可能是導(dǎo)致原材料價格上漲的主要原因。
許多現(xiàn)有的防護(hù)膜制造商也在開發(fā)針對先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)的新 pellicle 防護(hù)膜，降低了他們的整體產(chǎn)量。
廣告聲明：文內(nèi)含有的對外跳轉(zhuǎn)鏈接（包括不限于超鏈接、二維碼、口令等形式），用于傳遞更多信息，節(jié)省甄選時間，結(jié)果僅供參考，IT之家所有文章均包含本聲明。