IT之家 3 月 5 日消息，英特爾攜手 ASML 宣布高數(shù)值孔徑 High NA EUV 光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)“初次曝光”里程碑后，近日再次分享了一段視頻，展示了在英特爾位于美國俄勒岡州的 D1X 工廠內(nèi)，ASML 工程團(tuán)隊(duì)安裝調(diào)試的部分畫面。
英特爾在視頻中記錄了第一臺光刻掃描儀 ASML Twinscan EXE:5000 的交付過程，從視頻來看相關(guān)組件是通過空運(yùn)從荷蘭運(yùn)到美國的，因此相比海運(yùn)可以進(jìn)一步縮短交貨時間。
ASML 于今年 2 月展示了 High-NA 極紫外 (EUV) 光刻機(jī)，價值 3.5 億歐元（IT之家備注：當(dāng)前約 27.2 億元人民幣），重量相當(dāng)于兩架空客 A320 客機(jī)，被 ASML 公司宣稱為芯片制造商參與人工智能熱潮的“必備品”。
ASML 發(fā)言人 Monique Mols 在公司位于荷蘭費(fèi)爾霍芬的總部舉行的媒體參觀活動中表示，安裝這臺重達(dá) 150000 公斤的系統(tǒng)共計(jì)用時 6 個月，需要 250 個集裝箱和 250 名工程師。
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