三星沖擊高端代工新挑戰(zhàn):削減 High-NA EUV 光刻機(jī)采購(gòu)、被曝中止和 ASML 合建研究中心

2024/8/20 11:21:19 來(lái)源:IT之家 作者:故淵 責(zé)編:故淵
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IT之家 8 月 20 日消息,韓媒 businesskorea 今天(8 月 20 日)發(fā)布博文,曝料稱(chēng)三星計(jì)劃削減 High-NA EUV 采購(gòu)規(guī)模,而且和 ASML 聯(lián)合創(chuàng)立研究中心項(xiàng)目也遇到諸多障礙。

圖源:ASML

三星于 2023 年 12 月和 ASML 簽署了一份諒解備忘錄(MOU),將在韓國(guó)首都圈建立一個(gè) EUV 聯(lián)合研究中心。

IT之家援引消息源報(bào)道,三星原本計(jì)劃在未來(lái) 10 年內(nèi),采購(gòu) Twinscan EXE:5200、EXE:5400 和 EXE:5600 三款后續(xù) Twinscan EXE:5000 High-NA 光刻機(jī),而最新報(bào)道稱(chēng)三星已經(jīng)通知 ASML,不僅削減 Twinscan EXE:5000 系列 EUV 光刻機(jī)采購(gòu)數(shù)量,而且后續(xù)僅采購(gòu) EXE:5200。

報(bào)道稱(chēng)這一決定是在副董事長(zhǎng) Jun Young-hyun 被任命為 DS(設(shè)備解決方案)部門(mén)的新負(fù)責(zé)人,并重新審查正在進(jìn)行的項(xiàng)目和投資之后做出的。

一位熟悉情況的業(yè)內(nèi)人士說(shuō):

在京畿道華城購(gòu)買(mǎi)土地建造研究設(shè)施的過(guò)程以及設(shè)計(jì)和審批過(guò)程都在進(jìn)行中,然而,隨著三星決定減少設(shè)備引進(jìn),相關(guān)進(jìn)程已完全停止。

聯(lián)合研究中心是否會(huì)在其他地方建立,或者建立本身是否會(huì)被取消,將在今后的討論中決定。

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