IT之家 9 月 9 日消息，據(jù)臺媒《經(jīng)濟(jì)日報(bào)》今天下午援引業(yè)界消息稱，臺積電首臺 ASML High NA EUV 光刻系統(tǒng)設(shè)備本月將進(jìn)機(jī)，這將使其“持續(xù)領(lǐng)先”三星晶圓代工的交機(jī)進(jìn)度。
這臺設(shè)備的價值超過 4 億歐元（IT之家備注：當(dāng)前約 31.48 億元人民幣），其高度超過一間會議室、長度遠(yuǎn)超前一代設(shè)備，規(guī)格特殊且精密，因此當(dāng)?shù)嘏c機(jī)場或港口相連的高速公路預(yù)計(jì)需要進(jìn)行交通管制，或安排在特定的深夜時段運(yùn)送入廠，以避免交通不順。
對于業(yè)界傳聞，ASML 今天回應(yīng)稱“不評論單一客戶”，臺積電傍晚也提到不回應(yīng)市場傳聞。不過業(yè)界盛傳，臺積電首臺 High NA EUV 本月將進(jìn)機(jī)，預(yù)計(jì)移入臺積電全球研發(fā)中心用于研發(fā)，進(jìn)而應(yīng)對后續(xù)先進(jìn)制程開發(fā)需求。
據(jù)IT之家此前報(bào)道，今年 8 月曾有韓媒消息稱，三星將于 2024 年第 4 季度至 2025 年第 1 季度期間，安裝首臺來自 ASML 的 High-NA EUV 光刻機(jī)，并預(yù)估 2025 年年中投入使用。
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