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消息稱三星電子已將 1c nm 內(nèi)存開發(fā)良率里程碑推遲半年,恐影響 HBM4

2025/1/21 11:54:28 來源:IT之家 作者:溯波(實(shí)習(xí)) 責(zé)編:溯波

IT之家 1 月 21 日消息,韓媒 MoneyToday 當(dāng)?shù)貢r(shí)間昨日表示,三星電子已將其 1c nm DRAM 內(nèi)存開發(fā)的良率里程碑時(shí)間從 2024 年底推遲至 2025 年 6 月,而這一變化可能會(huì)影響到三星對(duì) HBM4 內(nèi)存的規(guī)劃。

三星電子原計(jì)劃在 2024 年 12 月將 1c nm 制程 DRAM 的良率提升至 70%,達(dá)到結(jié)束開發(fā)工作、進(jìn)入量產(chǎn)階段所需的水平。但在實(shí)際情況中,三星雖于去年底成功制得 1c nm DRAM 的良品晶粒,整體良率卻無法滿足要求

三星上代 1b nm 內(nèi)存于 2022 年 10 月完成開發(fā)、2023 年 5 月量產(chǎn);如果 1c nm 的開發(fā)結(jié)束時(shí)間定于今年中,那么量產(chǎn)就要落到 2025 年底,兩代 DRAM 工藝間的間隔會(huì)來到約 2.5 年,這明顯長于 1.5 年的業(yè)界一般開發(fā)周期。

另一方面,三星電子在 DRAM 內(nèi)存領(lǐng)域的兩大競(jìng)爭對(duì)手中,SK 海力士已于 2024 年 8 月宣布 1c nm 開發(fā)成功,而美光內(nèi)部的計(jì)劃是在今年 4 月完成開發(fā);三星很可能成為最后一家官宣 1c nm DRAM 的三大原廠。

1c nm DRAM 本身的推遲也將影響到后續(xù)內(nèi)存產(chǎn)品的進(jìn)度,尤其是在三星期許通過其重奪 HBM 市場(chǎng)領(lǐng)導(dǎo)地位的 HBM4 上。三星此前計(jì)劃在 2025 年內(nèi)量產(chǎn)基于 1c nm DRAM 和 4nm 邏輯芯片的 HBM4,以領(lǐng)先制程贏得競(jìng)爭優(yōu)勢(shì)。

業(yè)內(nèi)消息人士表示,三星電子也在對(duì) 1c nm DRAM 的設(shè)計(jì)進(jìn)行調(diào)整,并盡可能地加快開發(fā)時(shí)間。

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關(guān)鍵詞:三星電子,DRAM內(nèi)存,HBM4

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