IT之家 2 月 25 日消息，英特爾公司于當(dāng)?shù)貢r間周一宣布，其工廠已開始使用 ASML 公司的首批兩臺先進(jìn)光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。早期數(shù)據(jù)顯示，這些新型光刻機(jī)的可靠性優(yōu)于舊款機(jī)型。
IT之家注意到，在加利福尼亞州圣何塞的一場會議上，英特爾高級首席工程師史蒂夫?卡森（Steve Carson）表示，英特爾已利用 ASML 的高數(shù)值孔徑（NA）光刻機(jī)在一個季度內(nèi)生產(chǎn)了 30,000 片晶圓。這些晶圓是用于制造計算機(jī)芯片的大型硅片，每片晶圓可產(chǎn)出數(shù)千顆芯片。英特爾是全球首家接收這些新型光刻機(jī)的芯片制造商，該設(shè)備預(yù)計將生產(chǎn)出比舊款 ASML 機(jī)器更小、更快的計算芯片。
此前，英特爾在采用上一代極紫外（EUV）光刻機(jī)方面落后于競爭對手。英特爾曾花費七年時間才將舊款光刻機(jī)投入全面生產(chǎn)，這一過程中的可靠性問題使其失去了對臺積電的領(lǐng)先優(yōu)勢。
卡森指出，ASML 新型高數(shù)值孔徑（NA）光刻機(jī)在初步測試中的可靠性約為舊款機(jī)型的兩倍。他強(qiáng)調(diào)：“我們能夠以穩(wěn)定的速率生產(chǎn)晶圓，這對整個平臺來說是一個巨大的優(yōu)勢?！?/p>
此外，新型 ASML 光刻機(jī)通過光束在芯片上打印特征，能夠在更少的曝光次數(shù)下完成與舊款機(jī)器相同的工作，從而節(jié)省時間和成本。卡森表示，英特爾工廠的早期結(jié)果顯示，高 NA 光刻機(jī)僅需一次曝光和“個位數(shù)”的處理步驟，即可完成舊款機(jī)器需要三次曝光和約 40 個處理步驟的工作。
英特爾計劃利用高 NA 光刻機(jī)助力其 18A 制造技術(shù)的開發(fā)，該技術(shù)預(yù)計將于今年晚些時候與新一代 PC 芯片一同投入大規(guī)模生產(chǎn)。英特爾還計劃在其下一代制造技術(shù) 14A 中全面使用高 NA 光刻機(jī)，但尚未公布該技術(shù)的大規(guī)模生產(chǎn)日期。
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