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英特爾高性能DG2 獨顯曝光:采用臺積電7nm工藝,第二代Xe架構(gòu)

2020/1/20 17:07:46 來源:IT之家 作者:孤城 責編:孤城

IT之家1月20日消息 根據(jù)WCCFTECH的報道,英特爾將采用臺積電的7nm工藝打造DG2 高性能獨顯,升級為第二代Xe架構(gòu)。

▲英特爾DG1顯卡測試原型

在剛剛過去的CES 2020上,英特爾展示了Xe架構(gòu)的低功耗獨顯DG1,目前已經(jīng)分發(fā)給測試者。根據(jù)官方的演示,英特爾DG1可以流暢運行《命運2》。

英特爾GDC 2020大會將于3月16日至3月20日舉行,屆時英特爾將會公布Xe顯卡的詳細信息。英特爾稱,本次GDC演講將詳細介紹即將推出的顯卡背后的硬件架構(gòu),揭示其結(jié)構(gòu)及其性能,解釋圖形工程師如何最好地利用新的Xe架構(gòu)。

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