IT之家11月5日消息 據(jù)每日經(jīng)濟(jì)新聞報(bào)道，世界光刻機(jī)巨頭ASML亮相第三屆進(jìn)博會(huì)。作為全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的企業(yè)，由于ASML目前仍不能向中國(guó)出口EUV光刻機(jī)，所以此次展示的是其DUV光刻機(jī)。據(jù)了解，該產(chǎn)品可生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。
另外，ASML也帶來(lái)了其整體光刻解決方案，包括先進(jìn)控制能力的光刻機(jī)臺(tái)計(jì)算光刻和測(cè)量通過(guò)建模、仿真、分析等技術(shù)，讓邊緣定位精度不斷提高。
光刻機(jī)（Mask Aligner) 又名掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)光線的曝光印制到硅片上。
IT之家獲悉，作為全球芯片光刻技術(shù)的領(lǐng)導(dǎo)者，本次ASML（阿斯麥）以“光刻未來(lái)，攜手同行”為主題亮相第三屆進(jìn)博會(huì)技術(shù)裝備展區(qū)。時(shí)間是2020年11月5日至10日，位于技術(shù)裝備展區(qū)3C6-002。
亮點(diǎn)如下：
ASML 整體光刻解決方案，全方位保駕護(hù)航芯片生產(chǎn)的良率和產(chǎn)能。
光刻機(jī)模型近距離接觸，帶你領(lǐng)略光刻的神奇。
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