IT之家 8 月 22 日消息,今日,中微公司宣布,公司的電容耦合高能等離子體(CCP)刻蝕設(shè)備第 2000 個(gè)反應(yīng)臺(tái)順利付運(yùn)國(guó)內(nèi)一家半導(dǎo)體制造商。
中微公司指出,本批次運(yùn)付的 CCP 刻蝕設(shè)備反應(yīng)臺(tái)有 Primo AD-RIE 及 Primo HD-RIE 系列產(chǎn)品。其中,Primo AD-RIE-e 是中微第二代電介質(zhì)刻蝕產(chǎn)品 Primo AD-RIE 的子產(chǎn)品,將應(yīng)用于 5 納米及以下的前段和中段的掩膜層刻蝕的開發(fā)及量產(chǎn)。
該交付批次的 Primo HD-RIE 則具有六個(gè)單反應(yīng)臺(tái)腔體的系統(tǒng),定位于為中高深寬比刻蝕提供綜合解決方案。中微公司表示,Primo HD-RIE 在 3D-NAND 及 DRAM 中高深寬比溝槽及深孔刻蝕上表現(xiàn)優(yōu)異,在一些關(guān)鍵制程上已實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。
IT之家了解到,數(shù)據(jù)顯示,中微公司 2022 年上半年新簽訂單金額同比增長(zhǎng) 61.83% 達(dá)到 30.57 億元,營(yíng)業(yè)收入同比增長(zhǎng)了 47.30% 達(dá)到 19.72 億元,扣非歸母凈利潤(rùn)同比增長(zhǎng)了 615.26% 達(dá)到 4.41 億元,其中刻蝕設(shè)備收入為 12.99 億元,較去年同期增長(zhǎng)約 51.48%。
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