IT之家 9 月 18 日閃訊速報，近期，一則消息在各大視頻平臺廣為傳播，稱清華大學(xué) EUV 項目把 ASML 的光刻機巨大化，實現(xiàn)了光刻機國產(chǎn)化，并表示這個項目已經(jīng)在雄安新區(qū)落地。
對此，中國電子工程設(shè)計院有限公司（下稱“中國電子院”）今日下午發(fā)聲，稱該項目并非網(wǎng)傳的國產(chǎn)光刻機工廠，而是北京高能同步輻射光源項目（HEPS）。
據(jù)介紹，北京高能同步輻射光源項目坐落于北京懷柔雁棲湖畔，是國家“十三五”重大科技基礎(chǔ)設(shè)施，它是我國第一臺高能量同步輻射光源，也是世界上亮度最高的第四代同步輻射光源之一。該項目早在 2019 年就開始建設(shè)、將于 2025 年底投入使用。
HEPS 的作用是通過加速器將電子束加速到 6GeV，然后注入周長 1360 米的儲存環(huán)，用接近光速的速度保持運轉(zhuǎn)，電子束在儲存環(huán)的不同位置通過彎轉(zhuǎn)磁鐵或者各種插入件時，就會沿著偏轉(zhuǎn)軌道切線的方向釋放出穩(wěn)定、高能量、高亮度的光，也就是同步輻射光。
中國電子院表示，簡單的說，HEPS 可以看成是一個超精密、超高速、具有強大穿透力的巨型 X 光機。它產(chǎn)生的小光束可以穿透物質(zhì)、深入內(nèi)部進行立體掃描，從分子、原子的尺度多維度地觀察微觀世界，HEPS 是進行科學(xué)實驗的大科學(xué)裝置，并不是網(wǎng)傳的光刻機工廠。
IT之家注：中國電子工程設(shè)計院有限公司創(chuàng)建于 1953 年，曾先后隸屬于電子工業(yè)部、信息產(chǎn)業(yè)部，2003 年由國務(wù)院國資委管理，2009 年并入國家開發(fā)投資集團有限公司。該院以設(shè)計為龍頭，服務(wù)范圍涵蓋前期咨詢、規(guī)劃、環(huán)境和節(jié)能評價、工程設(shè)計、項目管理、工程監(jiān)理、工程承包、工程檢測評定等全過程。
參考
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