IT之家 4 月 30 日消息,三星電子在今日公布的一季度財報中分享了其半導體相關(guān)業(yè)務的技術(shù)信息和未來展望,IT之家整理如下:
系統(tǒng) LSI
三星表示整體晶圓代工業(yè)務的復蘇相對延遲,但晶圓廠的運營效率有一定提升。
技術(shù)方面,三星稱其 3nm 和 2nm 節(jié)點技術(shù)發(fā)展順利,將在本季度完成 2nm 設(shè)計基礎(chǔ)設(shè)施的開發(fā);而在 4nm 節(jié)點方面,良率漸趨穩(wěn)定。
三星正就適用于 3D IC 的 4nm 技術(shù)進行準本,同時計劃開發(fā)適用于 14nm、8nm 等成熟節(jié)點的基礎(chǔ)設(shè)施,滿足不同應用的需求。
三星確認其仍計劃在下半年實現(xiàn)第二代 3nm 技術(shù)的量產(chǎn),并提升 2nm 技術(shù)的成熟程度。
存儲
三星表示其已于本月開始量產(chǎn) HBM3E 8H(8 層堆疊)內(nèi)存,并計劃于本季度內(nèi)開始量產(chǎn)可提供 36GB 單堆棧容量的 HBM3E 12H 產(chǎn)品。三星將繼續(xù)增加 HBM 供應,滿足生成式 AI 市場的需求。
對于常規(guī) DDR5,三星基于 1bnm(12 納米級)制程的 32Gb DDR5 也將于本季度量產(chǎn)。三星計劃在該產(chǎn)品上實現(xiàn)更快的產(chǎn)能爬坡,以提升企業(yè)在高密度 DDR5 模組市場的競爭力。
三星 1bnm 32Gb DDR5 內(nèi)存于去年 9 月發(fā)布,當時計劃于 2023 年底量產(chǎn)。
而在 NAND 閃存領(lǐng)域,三星進一步明確第 9 代 V-NAND 的 QLC 版本將于三季度量產(chǎn)。
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