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消息稱三星電子正考慮將美國得州泰勒工廠工藝規(guī)劃從 4nm 改為 2nm

2024/6/18 16:30:36 來源:IT之家 作者:問舟 責編:問舟

IT之家 6 月 18 日消息,據 Etnews 報道,三星電子正在考慮將其美國得克薩斯州泰勒工廠的工藝制程從 4 納米改為 2 納米,以加強與臺積電美國廠和英特爾的競爭。消息人士稱,三星電子最快將于第三季度做出最終決定。

▲ 三星電子泰勒工廠建設工地(圖源:三星電子)

三星電子泰勒工廠投資于 2021 年,次年開始建設,計劃于 2024 年底開始分階段運營。三星電子 DS 部門前負責人 Lee Bong-hyun 曾表示,“到 2024 年底,我們將開始從這里出貨 4 納米產品”。

相對地,英特爾計劃今年在亞利桑那州和俄亥俄州工廠量產 Intel 20A 和 18A 工藝。此外,臺積電正在美國建設三座晶圓廠,計劃 2025 年上半年投產 4nm 制程,2028 年投產 2/3nm 制程,2030 年投產 2nm 以下制程。

在 4 月舉行的第一季度業(yè)績發(fā)布會上,三星電子表示“我們正準備根據客戶訂單分階段啟動美國泰勒工廠的運營工作,預計將于 2026 年實現首次量產。”

得益于泰勒工廠,三星電子能夠從美國政府獲得 64 億美元(IT之家備注:當前約 464.98 億元人民幣)的補貼,到 2030 年總投資預計將超過 400 億美元(當前約 2906.15 億元人民幣)。對于泰勒工廠的工藝轉變是否會影響投資,我們還需拭目以待。

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關鍵詞:三星電子

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