IT之家 9 月 10 日消息，繼英特爾搶先于 2024 年 4 月宣布完成業(yè)界首臺高數(shù)值孔徑極紫外（High NA EUV）光刻機組裝后，臺積電竹科園區(qū)將于 9 月底前引進其首臺高數(shù)值孔徑極紫外光刻機，較外界所猜測的年底時間點提前一整個季度。
Digitimes 報道稱，臺積電首部 High NA EUV 設(shè)備的購入價格遠低于原定的 3.5 億歐元（IT之家備注：當前約 27.55 億元人民幣）報價。
據(jù)稱，臺積電之所以可以享受折扣，主要是因為 ASML 給出了很大讓步（畢竟臺積電可是超級 VIP），全力協(xié)助臺積電進機、調(diào)校與技術(shù)支援等，加速上線時間點，也就是此臺主要目的為臺積電試用。ASML 對此則表示，不評論單一客戶。
供應(yīng)鏈表示，隨著未來 3nm 產(chǎn)能滿載與預(yù)計 2025 年 Q4 量產(chǎn)的 2nm 制程客戶訂單陸續(xù)落袋，臺積電已重啟 EUV 設(shè)備拉貨動能，估計此波新單規(guī)模約達 70 臺。
臺積電目前已經(jīng)掌控絕對市場占有率優(yōu)勢與話語權(quán)，也是至今 EUV 設(shè)備下單量最多的客戶，再加上是 High NA EUV 最大客戶，臺積電很顯然掌握著與 ASML 的議價優(yōu)勢。
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