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臺積電預計今年底從 ASML 接收首批 High NA EUV 光刻機

2024/11/1 15:41:05 來源:IT之家 作者:問舟 責編:問舟

IT之家 11 月 1 日消息,據(jù)日經(jīng)亞洲新聞報道,臺積電預計將于今年年底從 ASML 接收首批全球最先進的高數(shù)值孔徑極紫外光刻機,僅比英特爾晚了幾個月。

Digitimes 今年 9 月還曾報道稱,臺積電首部 High NA EUV 設備的購入價格遠低于原定的 3.5 億歐元(IT之家備注:當前約 27.1 億元人民幣)報價。

供應鏈表示,隨著未來 3nm 產(chǎn)能滿載與預計 2025 年 Q4 量產(chǎn)的 2nm 制程客戶訂單陸續(xù)落袋,臺積電已重啟 EUV 設備拉貨動能,估計此波新單規(guī)模約達 70 臺。

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