集微網(wǎng)消息，3 月 21 日，有投資者在投資者互動平臺提問：蘇大維格官網(wǎng)顯示，iGrapher 系列設(shè)備已用于 4 寸～8 寸 MEMS 制備、17 寸-65 寸精密電路制備的工業(yè)應(yīng)用。請問貴公司的光刻設(shè)備能否用于精密電路和 MEMS 的大規(guī)模制備? 有沒有提供給 PCB 或者 MEMS 制造廠商？
蘇大維格表示，公司激光直寫光刻機(jī)具體應(yīng)用包括柔性電子、MEMS 以及特定領(lǐng)域半導(dǎo)體比如半導(dǎo)體功率芯片等產(chǎn)品的研發(fā)與制造。公司光刻設(shè)備整機(jī)除自用及向國內(nèi)外高校及科研院所銷售外，2021 年開始向企業(yè)拓展，并成功實現(xiàn)了對半導(dǎo)體領(lǐng)域企業(yè)的銷售；在光刻機(jī)關(guān)鍵器件方面，公司向上海微電子提供了其半導(dǎo)體領(lǐng)域投影式光刻機(jī)用的定位光柵部件。
資料顯示，蘇大維格主要從事微納關(guān)鍵技術(shù)、高端智能制造設(shè)備和功能材料的創(chuàng)新應(yīng)用，是首批認(rèn)證的國家高新技術(shù)企業(yè)。其光刻儀器事業(yè)部研制了多種用于 MEMS 芯片的光刻設(shè)備 MiScan200（8”~12”）、微納光學(xué)的 MicroLab（4”~8”）和超表面、裸眼 3D 顯示、光電子器件研究的納米光刻設(shè)備 NanoCrystal（8”~32”）。
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